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半導体産業のための赤外線暖房

半導体産業のための赤外線暖房

2024-06-21

技術の継続的な発展とともに,赤外線加熱技術は徐々に人々の注意の焦点になりました.それは広く産業,半導体,医療,高効率の利点を有しているため環境保護と安全について

 

赤外線加熱の原理と特性

赤外線加熱技術は,赤外線光を吸収して熱に変換して標的物体を加熱する半導体材料の特徴を利用する.半導体材料が赤外線を吸収すると電子は,電流を形成し,熱を生成し,電流帯から電流帯へ移行します.この熱は,標的物体の温度を上昇させます.熱効果が得られる.

 

赤外線熱技術には以下の特徴がある.

● 効率: 赤外線 光 の 高 エネルギー に よっ て,半導体 材料 は 効率 的 に 光 を 熱 に 変換 し,それ に よっ て 迅速 な 熱 化 を 達成 でき ます.

 

● 環境 に 優しい: 赤外線 熱 装置 は,使用 する とき に 有害 な 物質 を 産出 し ませ ん.また 騒音 の 汚染 も あり ませ ん.これ は 環境 に 優しい 熱 装置 です.

 

● 安全性: 赤外線 暖房 は 純粋 に 抵抗 式 の 暖房 で ある の で,電流 は 半導体 材料 本体 を 通過 し ませ ん.したがって,安全 性 が 高く ある.

 

● 広範囲 に 適用 できる: 赤外線 熱 装置 は 容積 が 小くて 設置 が 簡単 で,形 と サイズ が 異なっ て いる 物 に 適合 し て い ます.

 

赤外線熱技術の使用

1. ウェーファー加熱装置

シリコンウエファーは,回路製造や太陽光パネルなどの分野で広く使用される重要な半導体材料である.加熱は,シリコンウエファの準備プロセスにおける重要なステップである.有機物質や泡を取り除くことができる材料を活性化し,形を調整し,材料構造を強化し,シリコンウエファの表面の純度と質を保証します様々な応用分野において より良い役割を果たすことができるようにする密度の高い熱を生成するために赤外線 (IR) 放射線を使用することで,赤外線ピロメーターによってホイールの温度を正確に測定することができます.

 

下の図は,RTPシステムの一種である.RTPシステムでは,上側と下側のライトが垂直に配置され,赤外線放射でホイファーを均等に熱します.ワフルの温度はピロメーターで監視され,その後,ワルフスタンハロゲンランプからの電源フィードバックによって制御されます熱された表面は,平均的な赤線放射線エネルギーを受信し,不均等な温度による不良なプロセス品質問題を効果的に軽減します.

 

2. 真空再流溶接炉

真空回流炉は,真空環境で高品質の製品を溶接するプロセスで,真空条件下で製品と溶接物を酸化から保護するために使用されます.同時に溶接表面の質を向上させ,溶接の孔隙を減少させるため,製品表面の酸化物と溶接剤と反応する.一般的に航空宇宙などの高精度製品に使用される静熱室は,赤外線照射による加熱原理を採用した内蔵加熱システムで装備されており,均質な温度,超低温安全溶接, 温度差,過熱,信頼性と安定したプロセスパラメータ,複雑なプロセステストの必要性がない,低環境コストの操作.複数の品種のニーズを満たす.小批量軍用製品の高信頼性の溶接.

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3電子電化炉

真空電圧炉は,金属または他の材料の表面を電圧する装置である.真空環境で電圧することができる.これにより電圧層の質と耐久性が向上します. 温度制御は真空電圧塗装炉の操作における重要なステップである. 全体的に,真空電圧塗装炉の温度制御は非常に重要です.赤外線熱の特徴を利用することで精密な温度制御と温度均一性を確保することで,電圧層の質と耐久性を効果的に改善することができます.異なる電圧処理の要件を満たす同時に,電圧塗装プロセスの安全性と安定性も保証できます.